像素电极的图案形成方法和形成系统

摘要

本发明提供一种像素电极的图案形成方法和形成系统，在制造IPS方式、FFS方式的液晶驱动方式等的液晶显示装置时，即使使用分辨率低的现有的通常的曝光装置，也能够进一步实现像素电极的窄间距化。在玻璃基板(G)上形成像素电极的图案的方法，在玻璃基板(G)上的像素电极层(1)的上表面，在成为上述图案的第一间隙部的部分形成抗蚀剂(2)，然后形成牺牲膜，接着以保留残置牺牲膜(3a)、(3b)的方式去除牺牲膜，在像素电极层(1)的上表面形成上述图案的第二间隙部(S2)。然后去除抗蚀剂(2)，形成上述图案的第二间隙部，接着，在上述第一间隙部、第二间隙部的侧方形成接触部的抗蚀剂，然后去除第一间隙部、第二间隙部的像素电极层。

主权项

一种像素电极的图案形成方法，用于在基板上形成像素电极的图案，其特征在于：在基板上的像素电极层的上表面，在成为所述图案的第一间隙部的部分形成抗蚀剂，然后在形成有所述抗蚀剂的像素电极层上形成牺牲膜，然后以保留所述抗蚀剂的侧部的残置牺牲膜的方式去除所述牺牲膜，在像素电极层的上表面形成所述图案的第二间隙部，然后去除所述抗蚀剂，形成所述图案的第二间隙部，然后在所述第一间隙部、第二间隙部的侧方形成接触部的抗蚀剂，然后去除所述第一间隙部、第二间隙部的像素电极层。