发明名称 |
硅激光器-量子阱混合晶片结合的集成平台 |
摘要 |
本发明揭示一种硅激光器-量子阱混合晶片结合的集成平台。通过将化合物半导体材料的晶片作为有源区结合到硅并移除衬底,可在硅衬底上使用标准光刻技术处理激光器、放大器、调制器和其它装置。根据本发明的一个或一个以上实施例的硅激光器混合集成装置包括在顶部表面中的至少一个波导的绝缘体上硅衬底和包括增益层的化合物半导体衬底,所述化合物半导体衬底经受量子阱混合工艺,其中所述化合物半导体衬底的上表面结合到所述绝缘体上硅衬底的所述顶部表面。 |
申请公布号 |
CN103259185B |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201310090527.3 |
申请日期 |
2009.01.16 |
申请人 |
加利福尼亚大学董事会 |
发明人 |
马修·N·西萨克;约翰·E·鲍尔斯;亚历山大·W·方;玄戴·帕克 |
分类号 |
H01S5/026(2006.01)I;H01S5/34(2006.01)I;H01S5/0625(2006.01)I;B82Y20/00(2011.01)I |
主分类号 |
H01S5/026(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
王允方 |
主权项 |
一种光子装置,其包括:绝缘体上硅衬底,其包括硅层,所述硅层包括第一波导;以及化合物半导体结构,其包括:第一层,其包括p型化合物半导体;第二层,其包括n型化合物半导体;以及量子阱层,其在所述第一层与所述第二层之间,所述量子阱层的特征在于第一带隙,所述量子阱层包括具有第二带隙的第一区,所述第二带隙从所述第一带隙移动第一移位,所述第一移位基于邻近所述第二层且远离所述第一层的牺牲层,所述牺牲层包括点缺陷;其中所述化合物半导体结构与所述第一波导结合,以使得所述量子阱层与所述第一波导以光学方式耦合且所述第二层邻近所述第一波导。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |