| 发明名称 | 用于促进自组装的底层组合物及制造与使用方法 | ||
| 摘要 | 本文中公开的是用于沉积促进自组装结构形成的固化底层的制剂。该底层包含：(a)包含至少一种具有结构(I)的侧位乙烯基醚单体重复单元的聚合物：<img file="DDA0000943157310000011.GIF" wi="182" he="647" />其中R选自H、C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基或卤素，并且W是选自C<sub>1</sub>-C<sub>6</sub>亚烷基、C<sub>6</sub>-C<sub>20</sub>亚芳基、亚苄基或C<sub>2</sub>-C<sub>20</sub>亚烷基氧基亚烷基的二价基团；(ii)任选的热生酸剂；和(c)溶剂。本发明还涉及使用该底层形成图案的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105555815A | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201480051160.7 | 申请日期 | 2014.09.24 |
| 申请人 | AZ电子材料卢森堡有限公司 | 发明人 | 吴恒鹏;殷建;林观阳;金志勋;单槛会 |
| 分类号 | C08F220/14(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 汪宇伟 |
| 主权项 | 用于沉积促进自组装结构形成的底层的制剂，包含：a)包含至少一种具有以下结构的侧位乙烯基醚单体重复单元的聚合物<img file="FDA0000943157280000011.GIF" wi="182" he="551" />其中R选自H、C<sub>1</sub>‑C<sub>4</sub>烷基或卤素，并且W是选自C<sub>1</sub>‑C<sub>6</sub>亚烷基、C<sub>6</sub>‑C<sub>20</sub>亚芳基、亚苄基或C<sub>2</sub>‑C<sub>20</sub>亚烷基氧基亚烷基的二价基团；和(b)溶剂。 | ||
| 地址 | 卢森堡卢森堡 | ||