缓冲单元、基板处理设备及基板处理方法

摘要

本发明提供了一种缓冲单元，所述缓冲单元包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板。

主权项

一种缓冲单元，包括：框架，所述框架包括底板、第一垂直板和第二垂直板，其中所述第一垂直板和所述第二垂直板在所述底板上相互隔离；第一缓冲器，在所述第一缓冲器上放置基板，所述第一缓冲器被允许在所述第一垂直板和所述第二垂直板之间翻转；第二缓冲器，所述第二缓冲器具有简单的缓冲功能而不翻转所述基板；及多个驱动部，所述多个驱动部设置在所述第一垂直板和所述第二垂直板外侧，并驱动所述第一缓冲器夹持和翻转放置在所述第一缓冲器上的基板；其中所述框架还包括多个隔离盖，所述隔离盖覆盖所述第一垂直板和所述第二垂直板的外表面，以将容纳所述驱动部的驱动部空间与外部环境隔离。