| 摘要 |
본 발명은 중간 기압 및 고기압에 있어서도 높은 균일성과 고밀도, 또한 저온의 광폭의 플라스마 제트를 발생하는 것이 가능한 마이크로파 여기 플라스마 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 하는 것이며, 해당 마이크로파 플라스마 처리 장치는, 유전체 기판과, 상기 유전체 기판의 한쪽의 단부에 설치된 해당 유전체 기판의 두께가 서서히 작아지는 형상의 테이퍼부와, 마이크로스트립 선로와, 어스 도체와, 마이크로파 입력부와, 상기 유전체 기판 내에 가스를 입력하기 위한 가스 입력구와, 플라스마 발생부와, 상기 플라스마 발생부에 균일한 유속을 갖는 광폭의 가스류를 공급하기 위해 상기 유전체 기판 내부에 설치된, 가스류가 진행함에 따라 가스류 폭이 넓어지도록 형성된 가스류 광폭화부(廣幅化部)와, 가스를 상기 가스류 광폭화부에 공급하기 위한 가스 유로와, 플라스마를 취출(吹出)시키기 위한 노즐을 구비하는 것을 특징으로 한다. |
