| 发明名称 |
光学积层体 |
| 摘要 |
明提供一种即便使用包含低透湿性之(甲基)丙烯酸系树脂之(甲基)丙烯酸系树脂膜(基材膜)，亦可确保(甲基)丙烯酸系树脂膜(基材膜)与硬涂层之密着性，且可防止耐磨性之下降之光学积层体。本发明之光学积层体包含含有(甲基)丙烯酸系树脂膜之基材层、及将硬涂层形成用组合物涂敷于该(甲基)丙烯酸系树脂膜上而形成之硬涂层，且硬涂层形成用组合物包含具有9个以上之自由基聚合性不饱和基之化合物(A)，并且相对于该硬涂层形成用组合物中之全硬化性化合物，该化合物(A)之含有比例为15重量%~100重量%。
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| 申请公布号 |
TWI531600 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW101114325 |
申请日期 |
2012.04.20 |
| 申请人 |
日东电工股份有限公司 |
发明人 |
柴田周作;高田胜则;武本博之 |
| 分类号 |
C08J7/18(2006.01);G02B5/30(2006.01) |
主分类号 |
C08J7/18(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种光学积层体，其包含含有(甲基)丙烯酸系树脂膜之基材层、及将硬涂层形成用组合物涂敷于该(甲基)丙烯酸系树脂膜上而形成之硬涂层；硬涂层形成用组合物包含具有9个以上之自由基聚合性不饱和基之化合物(A)，并且相对于该硬涂层形成用组合物中之全硬化性化合物，该化合物(A)之含有比例为15重量%~100重量%，且于上述基材层与上述硬涂层之间，进而含有使上述硬涂层形成用组合物渗透至上述(甲基)丙烯酸系树脂膜而形成之渗透层，且该渗透层之厚度为1.2μm以上。
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| 地址 |
日本 |
