| 发明名称 |
处理钠钙矽玻璃基板之表面的方法、经表面处理之玻璃基板、以及并有该玻璃基板之装置 |
| 摘要 |
明的某些实例具体例系有关于处理钠钙矽玻璃基板之表面的方法，例如，一种钠钙矽硷离子玻璃基板，以及所形成之经表面处理的玻璃物件。更特别地，本发明的某些实例具体例系有关于使用离子源来移除一玻璃基板的顶表面部件的方法。在此部件的移除期间或是在此部件的移除之后，该玻璃可以接而用另一层予以涂覆，待使用作为一覆盖层。于某些实例具体例中，用一覆盖层予以涂覆之该玻璃基板可以使用作为一电子装置中之滤色片基板及/或TFT基板。于其他的实例具体例中，该玻璃基板上具有该覆盖层之玻璃基板可以使用于各种各样的显示装置中。 |
| 申请公布号 |
TWI532078 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW100137310 |
申请日期 |
2011.10.14 |
| 申请人 |
加尔汀工业公司 |
发明人 |
汤姆森 史考特Ｖ |
| 分类号 |
H01L21/203(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L29/786(2006.01);C23C14/34(2006.01);G02F1/1333(2006.01);C03C3/078(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/203(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种制造一涂覆物件之方法，该方法包含：使用至少一第一离子源来离子束研磨(ion beam milling)一玻璃基板之实质整个表面，以便降低该玻璃基板之厚度至少大约100埃，其中该玻璃基板包含大约67-75% SiO2、大约6-20% Na2O、以及大约5-15% CaO；以及在该离子束研磨的期间或在该离子束研磨以后，经由离子束辅助沉积(ion beam assisted deposition)(IBAD)来形成包含AlSiOx的至少一层于该玻璃基板之经离子束研磨表面的至少一部份之上，其中该IBAD使用至少一溅镀靶材及至少一第二离子源。
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| 地址 |
美国 |
