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一种介质薄膜的二次电子发射系数的测量方法，该方法采用的测量系统包括电子枪(1)、桶状收集极(2)、样品托(3)、以及总电源(4)，其中，桶状收集极(2)的顶端开设有圆孔，样品托(3)设置于桶状收集极(2)中，电子枪(1)设置于桶状收集极(2)外侧，样品托(3)、圆孔、以及电子枪(1)发射端均在同一直线上；样品托(3)通过第一电阻(R1)与总电源(4)的正极相连，总电源(4)的正极接地，电子枪(1)与总电源(4)的负极相连；桶状收集极(2)上连接有正负极相反的第一电源(5)和第二电源(6)，第一电源(5)和第二电源(6)的另一端连接有转换开关(7)，转换开关(7)通过第二电阻(R2)与总电源(4)的正极相连接；其特征在于，测量方法包括以下步骤：1)调节电子枪参数以及总电源(4)的负输出，以使得电子枪发射出聚焦状态的电子束；2)在第一电阻(R1)和第二电阻(R2)上连接示波器；3)调节转换开关(7)，使得桶状收集极(2)与电极为正极的第一电源(5)连通，并使电子枪工作于单次脉冲状态，用示波器记录下流过第一电阻(R1)的第一单次电流脉冲波形，以及流过第二电阻(R2)的第二单次电流脉冲波形；4)根据第一单次电流脉冲波形和第二单次电流脉冲波形，读出第一单次电流脉冲波形和第二单次电流脉冲波形的幅度，计算出二次电子发射系数；5)保持总电源(4)的输出不变，调节转换开关(7)，将桶状收集极(2)与电极为负极的第二电源(6)连通，让电子枪工作在连续脉冲状态，以中和样品表面所带的正电荷；6)重复1)～5)的过程，绘制二次电子发射系数与入射电子能量的关系曲线。 |
