发明名称 可高效率地提取光的玻璃基板及其制造方法
摘要 本发明涉及一种可高效率地提取光的玻璃基板及其制造方法,以提高应用于LED照明、太阳能电池或者平板显示器面板的玻璃基板的光提取效率。根据本发明,将玻璃基板液浸于蚀刻溶液并放置数秒至数分钟之后,进行清洗,此时玻璃基板的表面将随机地分布纳米至微米尺寸的多个凹痕,从而将光提取效率提高25%至30%以上。
申请公布号 CN102456835B 申请公布日期 2016.04.27
申请号 CN201110314076.8 申请日期 2011.10.17
申请人 诺发光电股份有限公司 发明人 黄龙云;姜东昊;李在永;吴昇赫;金会镇;具本澈
分类号 H01L51/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/00(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 韩明星;金光军
主权项 一种可高效率地提取光的玻璃基板的制造方法,其特征在于,包括:在玻璃基板上掩蔽具备横向长度和竖向长度为数μm至数十μm的网孔的掩模的步骤;将混合能够被氟离子蚀刻的平均粒径为数μm至数十μm尺寸的金属粉末和粘合剂的浆体以丝网印刷涂布于所述掩模上的步骤;在50℃~200℃下对被涂布的所述浆体进行干燥的步骤;撤去所述掩模之后,将不会粘贴于所述浆体也不会被氟粒子蚀刻的热固化性树脂喷射到涂布有所述浆体的玻璃基板上的步骤;在50℃~200℃下对所述热固化性树脂进行干燥的步骤;对涂布有所述浆体和热固化性树脂并进行干燥的玻璃基板进行蚀刻,以对包含于所述浆体而紧贴加压到玻璃基板的金属粉末和所述金属粉末粒子所加压的位置的玻璃部分进行蚀刻,以形成平均直径为数μm至数十μm尺寸的微米凹痕的一次蚀刻步骤;以及结束所述一次蚀刻步骤之后,对玻璃基板进行蚀刻的第二蚀刻步骤,以在形成于玻璃基板的微米凹痕内形成平均直径为数nm至数十nm尺寸的纳米凹痕,由此在玻璃基板上形成微米凹痕并在所述微米凹痕面上形成纳米凹痕。
地址 韩国忠清北道