发明名称 |
プラズマ抵抗性が向上したセラミック被膜の形成方法およびこれによるセラミック被膜 |
摘要 |
【課題】本発明の一実施例はプラズマ抵抗性が向上したセラミック被膜の形成方法およびこれによるセラミック被膜に関する。【解決手段】本発明は、粉末供給部から粉末の第1粒径範囲を有する多数のセラミック粉末が供給され、移送ガスを利用してセラミック粉末を移送する段階と、移送されたセラミック粉末を工程チャンバー内の基材に100乃至500m/sの速度で衝突および破砕させて、被膜の第1粒径範囲を有する多数の第1セラミック粒子と、被膜の第1粒径範囲より大きい被膜の第2粒径範囲を有する多数の第2セラミック粒子が混合されたセラミック被膜を形成する段階とを含み、第1セラミック粒子被膜の第1粒径範囲は200nm乃至900nmであり、第2セラミック粒子被膜の第2粒径範囲は900nm乃至10μmであるプラズマ抵抗性が向上したセラミック被膜の形成方法およびこれによる被膜を開示する。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2016511796(A) |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
申请号 |
JP20150557964 |
申请日期 |
2014.12.04 |
申请人 |
イオンズ カンパニー リミテッド |
发明人 |
リ ムン ギ;キム ビョン キ;パク チェ ヒョク;キム デ グン;リ ミョン ノ |
分类号 |
C23C24/04;C23C16/44;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23C24/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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