发明名称 | 曝光装置及方法、组件制造方法以及决定方法 | ||
摘要 | 通过驱动装置,根据用于测量晶片台WTB在Y轴方向位置信息的编码器(64)的测量值、与该测量时以干涉仪(16,43A及43B)所测量的晶片台WTB在非测量方向(例如,Z、及θz及θx方向)的位置信息所对应的已知修正信息,将晶片台WTB驱动于Y轴方向。也即,根据用于修正因读头往非测量方向与标尺的相对位移引起的编码器测量误差的修正信息修正后的编码器测量值,将移动体驱动于Y轴方向。因此,能在不受读头与标尺间的要测量方向(测量方向)以外的相对运动影响的情形下,一边以编码器测量位置、一边以良好精度将晶片台WTB(移动体)驱动于所希望的方向。 | ||
申请公布号 | CN103645608B | 申请公布日期 | 2016.04.20 |
申请号 | CN201310529253.3 | 申请日期 | 2007.08.31 |
申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 柴崎祐一 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吴丽丽 |
主权项 | 一种用能量束使物体曝光的曝光装置,其特征在于包括:移动体,保持上述物体,能至少在规定平面内正交的第1及第2方向移动;编码器系统,在保持上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与读头单元的一方,且另一方与上述移动体的一面对向设置,以测量上述移动体在上述第1及第2方向的至少一方的位置信息;以及驱动装置,基于编码器系统的测量信息、与上述移动体在与上述第1及第2方向不同方向的位置信息,在上述规定平面内驱动上述移动体;上述不同方向包含与上述规定平面正交的第3方向、且包含绕与上述规定平面正交的轴的旋转方向及绕与上述规定平面平行的轴的旋转方向的至少一个。 | ||
地址 | 日本东京 |