发明名称 |
一种药水循环装置及具有该装置的沉铜系统、电镀系统 |
摘要 |
本实用新型公开一种药水循环装置及具有该装置的沉铜系统、电镀系统,其中,药水循环装置包括第一储液槽和第二储液槽,用于将第一储液槽底部的药水、顶部的药水分别输送至第二储液槽内的第一输送装置、第二输送装置;以及用于对第二储液槽内的药水进行过滤,并将过滤后的药水输送到第一储液槽内的第一过滤器。沉铜系统包括取放装置,以及上述的药水装置。电镀系统包括用取放装置,上述的药水装置,以及用于给第一储液槽内提供铜离子的电极装置。由于第一储液槽的顶部、底部药水中的杂质能够被及时地过滤掉,使得药水一直处于澄清状态,在基板上沉铜或者电镀铜时,均不会在基板的表面上、孔内带入杂质,从而降低制备出的PCB板的报废率。 |
申请公布号 |
CN205171009U |
申请公布日期 |
2016.04.20 |
申请号 |
CN201520972289.3 |
申请日期 |
2015.11.30 |
申请人 |
北大方正集团有限公司;珠海方正科技高密电子有限公司 |
发明人 |
赵汝垣;漆拥宪;胡永栓 |
分类号 |
C25D21/18(2006.01)I |
主分类号 |
C25D21/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 |
代理人 |
周美华 |
主权项 |
一种药水循环装置,其特征在于:包括第一储液槽(1)和第二储液槽(2);第一输送装置(3),用于将所述第一储液槽(1)底部的药水输送至所述第二储液槽(2)内;第二输送装置(4),用于将所述第一储液槽(1)顶部的药水输送至所述第二储液槽(2)内;第一过滤器(5),用于对所述第二储液槽(2)内的药水进行过滤;并将过滤后的药水输送到第一储液槽(1)内。 |
地址 |
100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层 |