CMP工艺抛光垫的修整装置

摘要

本发明提供了一种CMP工艺抛光垫的修整装置，其包括：修整器和修整器边缘的高压水枪或高压气枪，所述修整器包括转轮，转轮表面有磨粒排布，转轮安装在能提供动力的外壳上，在外壳边缘或者外侧设有空洞、喷嘴或缝隙，或者在磨粒跟磨粒之间空隙中设置空洞、喷嘴或缝隙，所述空洞、喷嘴或缝隙通过管路连接到高压水枪或高压气枪。对于环形的转轮，还可以在转轮中间设置所述空洞、喷嘴或缝隙。本发明通过对修整器边缘添加高压水枪（或气枪），在修整器磨轮对抛光垫表面进行修整的同时，从不同角度对修整位置进行高压冲洗，其工艺非常容易控制，且压力较小不会损伤抛光垫表面，并且高压水枪（或气枪）可以附加在修整器周围。

主权项

CMP工艺抛光垫的修整装置，其特征是，包括：修整器和修整器边缘的高压水枪或高压气枪，所述修整器包括转轮（302），转轮（302）表面有磨粒（301）排布，转轮（302）安装在能提供动力的外壳（303）上，在外壳（303）边缘或者外侧设有空洞、喷嘴或缝隙，或者在磨粒跟磨粒之间空隙中设置空洞、喷嘴或缝隙，所述空洞、喷嘴或缝隙通过管路连接到高压水枪或高压气枪。