发明名称 ELONGATED CAPACITIVELY COUPLED PLASMA SOURCE FOR HIGH TEMPERATURE LOW PRESSURE ENVIRONMENTS
摘要 프로세싱 챔버와 함께 사용하기 위한 모듈식 플라즈마 소스 조립체가 설명된다. 조립체는, 전극의 측들에 인접하여 포지셔닝된 슬라이딩 접지 연결부 및 단부 유전체와 함께 RF 핫 전극을 포함한다. 밀봉 호일은, 단부 유전체에 의해, 핫 전극으로부터 분리된, 접지된 슬라이딩 접지 연결부를 제공하기 위해, 슬라이딩 접지 연결부를 하우징에 연결한다. 동축 피드 라인은, 플라즈마 프로세싱 영역이 감소된 압력에 있는 동안, 동축 RF 피드 라인이 대기압에 있도록, 프로세싱 환경으로부터 격리된 RF 핫 전극 내로의 도관을 통과한다.
申请公布号 KR20160043084(A) 申请公布日期 2016.04.20
申请号 KR20167006796 申请日期 2014.08.15
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 FORSTER JOHN C.;YUDOVSKY JOSEPH;KWONG GARRY K.;NGO TAI T.;GRIFFIN KEVIN;COLLINS KENNETH S.;LIU REN
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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