发明名称 EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD AND DEVICE PRODUCING METHOD
摘要 이 노광 장치는, 투영 광학계의 이미지면측에 배치된 기판 상에 상기 투영 광학계와 액체를 통해서 노광광을 조사함으로써 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서, 상기 기판 상에 액체를 공급하는 액체 공급 기구와, 상기 기판 상에 공급된 액체를 회수하는 액체 회수 기구를 구비하고, 상기 노광광이 상기 투영 광학계의 이미지면측에 조사되고 있을 때, 상기 액체 회수 기구는 상기 액체를 회수하지 않는다.
申请公布号 KR101613384(B1) 申请公布日期 2016.04.18
申请号 KR20147019070 申请日期 2004.08.20
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 나가사카 히로유키;이시이 유우키;마키노우치 스스무
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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