| 发明名称 |
测量一目标结构之一性质之方法、检测装置、微影系统及器件制造方法 |
| 摘要 |
目标之一影像之强度来测量一目标结构之一性质。该方法包括：(a)获得该目标结构之一影像；(b)界定(1204)复数个候选所关注区，每一候选所关注区包含该影像中的复数个像素；(c)至少部分地基于该所关注区内之像素之信号值而定义(1208、1216)用于该等候选所关注区之一最佳化度量值；(d)定义(1208、1216)一目标信号函数，该目标信号函数定义该影像中之每一像素对一目标信号值之一贡献。每一像素之该贡献取决于(i)哪些候选所关注区含有彼像素及(ii)彼等候选所关注区之最佳化度量值。
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| 申请公布号 |
TW201614383 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
| 申请号 |
TW104128716 |
申请日期 |
2015.08.31 |
| 申请人 |
ＡＳＭＬ荷兰公司 |
发明人 |
波斯肯特 慕拉特;贾克 马丁 贾库柏斯 乔汉;提那曼斯 派西斯 阿若瑟斯 约克伯 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G01B11/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
| 主权项 |
一种测量一基板上之一目标结构之一性质之方法，该方法包含如下步骤：(a)使用由该目标结构在照明下绕射之辐射之一预定部分而获得该目标结构之一影像；(b)界定复数个候选所关注区，每一候选所关注区包含该影像中的复数个像素；(c)至少部分地基于该所关注区内之像素之信号值而定义用于该等候选所关注区之一最佳化度量值；(d)直接或间接地定义一目标信号函数，该目标信号函数定义该影像中之每一像素对一目标信号值之一贡献，每一像素之该贡献取决于(i)哪些候选所关注区含有彼像素及(ii)彼等候选所关注区之最佳化度量值；及(e)根据该经定义目标信号函数，使用藉由组合来自一经侦测影像的多个像素信号值而直接或间接地演算之一目标信号值来获得该相同目标结构或一不同目标结构之该性质之一测量。
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| 地址 |
荷兰 |
