用于磊晶腔室的衬垫

摘要

揭露之实施例描述一种衬垫组件，该衬垫组件包括复数个个别分开的气体通路。该衬垫组件提供遍及正受处理之基板上的流动参数之控制，该等参数诸如流速、密度、方向与空间位置。利用根据本案实施例的衬垫组件，遍及正受处理之基板上的处理气体可特定地经修改以用于个别的制程。

主权项

一种衬垫组件，包括：一圆筒状主体，具有：一外表面与一内表面，该外表面具有一外周边，该外周边小于该半导体处理腔室之一周边，该内表面形成一处理空间之该等壁；复数个气体通路，该等气体通路形成为与该圆筒状主体相连；一排气通口，定位在该复数个气体通路对面；一交叉流通口，定位成与该排气通口不平行；以及一热感测通口，定位成与该交叉流通口分开。