发明名称 |
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺 |
摘要 |
本发明提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。工艺步骤如下:1)清洗,在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;2)预热,在350-400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10-20min;3)盐浴氮化,温度520~580℃,时间10~180min,氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30-50%、Na<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>4-8%、K<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>6-10%、Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 5-10%、KCNO 12-25%、NaCNO 8-15%、NaCl 5-8%、Na<sub>2</sub>S 4-8%、K<sub>2</sub>S 6-10%、LiOH 2-5%;4)盐浴氧化,氧化盐按质量计,配方组成为:Na<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>30-40%、Na<sub>2</sub>NO<sub>3 </sub>20-30%、NaSO<sub>4 </sub>20-30%、NaNO<sub>2</sub> 20-30%;5)冷却,在空气下冷却,机械抛光;6)采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。 |
申请公布号 |
CN105483608A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201510978018.3 |
申请日期 |
2015.12.23 |
申请人 |
德阳瑞泰科技有限公司 |
发明人 |
郭军 |
分类号 |
C23C8/58(2006.01)I;C23C8/48(2006.01)I |
主分类号 |
C23C8/58(2006.01)I |
代理机构 |
成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 |
代理人 |
邹翠 |
主权项 |
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:1)清洗在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;2)预热在350‑400℃的温度下,在空气炉中对工件加热10‑20min;3)盐浴氮化温度400‑450℃,时间120~180min;所述的氮化盐按质量计,配方组成为:尿素30‑50%、Na<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>4‑8%、K<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>6‑10%、Li<sub>2</sub>CO<sub>3</sub> 5‑10%、KCNO 12‑25%、NaCNO 8‑15%、NaCl 5‑8%、Na<sub>2</sub>S 4‑8%、K<sub>2</sub>S 6‑10%、LiOH 2‑5%;4)盐浴氧化所述的氧化盐按质量计,配方组成为:Na<sub>2</sub>CO<sub>3 </sub>30‑40%、Na<sub>2</sub>NO<sub>3 </sub>20‑30%、NaSO<sub>4 </sub>20‑30%、NaNO<sub>2</sub> 20‑30%;5)冷却在空气下冷却,机械抛光;6)再氧化采用步骤3)的氧化盐,氧化完成后,浸油。 |
地址 |
618500 四川省德阳市罗江经济开发区金山工业园幸福路西段 |