发明名称 |
一种基于PVD制备全固态锂离子电池用薄层金属锂基负极的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于PVD制备全固态锂离子电池用薄层金属锂基负极的方法,其步骤如下:一、将商业化锂离子电池负极用集流体铜箔表面清洁后,置于物理气相沉积的腔体内作为沉积基底;二、将待沉积金属锂源和保护层金属源分别制成靶材置于腔体内,作为沉积层金属源;三、设置物理气相沉积参数,真空状态下,利用PVD方法在铜箔表面依次沉积金属锂基负极材料沉积层和保护金属层,沉积层厚度由沉积时间控制。本发明采用物理气相沉积(PVD)方法制备在负极集流体铜箔表面沉积薄层金属锂基负极材料,在薄层金属锂基负极材料表面沉积薄层金属保护层,该方法能极大地增强了全固态锂离子电池生产过程中的安全性,提升了全固态锂离子电池的极限能量密度。 |
申请公布号 |
CN105489845A |
申请公布日期 |
2016.04.13 |
申请号 |
CN201511011121.7 |
申请日期 |
2015.12.30 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
高云智;付传凯 |
分类号 |
H01M4/1395(2010.01)I;H01M4/04(2006.01)I;H01M10/0525(2010.01)N |
主分类号 |
H01M4/1395(2010.01)I |
代理机构 |
哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 |
代理人 |
高媛 |
主权项 |
一种基于PVD制备全固态锂离子电池用薄层金属锂基负极的方法,其特征在于所述方法步骤如下:一、将商业化锂离子电池负极用集流体铜箔表面清洁后,置于物理气相沉积的腔体内作为沉积基底;二、将待沉积金属锂源和保护层金属源分别制成靶材置于腔体内,作为沉积层金属源;三、设置物理气相沉积参数,真空状态下,利用PVD方法在铜箔表面依次沉积金属锂基负极材料沉积层和保护金属层。 |
地址 |
150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |