| 发明名称 | 清洗处理方法 | ||
| 摘要 | 一种不设置专用的清洗机构就能够清洗杯的上表面及周围的清洗处理方法。使旋转基座(21)以250rpm～350rpm(第一转速)旋转，使包围旋转基座(21)的处理杯(40)上端低于旋转基座(21)的保持面(21a)，从喷出头(31)向保持面(21a)供给清洗液。通过从旋转的旋转基座(21)的保持面(21a)飞散的清洗液，清洗处理杯(40)的外侧上表面(43d)。此后，使旋转基座(21)以比第一转速大的350rpm～450rpm(第二转速)旋转，从喷出头(31)向保持面(21a)供给清洗液，通过从旋转的保持面(21a)飞散的清洗液，清洗处理杯(40)外侧的间隔板(15)及腔室(10)侧壁(11)。 | ||
| 申请公布号 | CN102760644B | 申请公布日期 | 2016.04.13 |
| 申请号 | CN201210128926.X | 申请日期 | 2012.04.27 |
| 申请人 | 斯克林集团公司 | 发明人 | 长田直之;杉本健太郎 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 董雅会;郭晓东 |
| 主权项 | 一种清洗处理方法，其特征在于，包括：杯上表面清洗工序，一边使具有保持面的基板保持装置以第一转速旋转，一边使包围所述基板保持装置的周围的杯的上端低于所述基板保持装置，并从清洗液供给喷嘴向没有保持基板的所述保持面供给清洗液，通过从旋转的所述保持面飞散的清洗液，来清洗所述杯的外侧上表面，其中，所述保持面与需保持的基板的下表面相向；杯外区域清洗工序，一边使所述基板保持装置以比第一转速更大的第二转速旋转，一边使所述杯的上端低于所述基板保持装置，并从所述清洗液供给喷嘴向没有保持基板的所述保持面供给清洗液，通过从旋转的所述保持面飞散的清洗液，来清洗位于所述杯的周围的杯外区域；在所述杯上表面清洗工序以及所述杯外区域清洗工序中，使供给清洗液的所述清洗液供给喷嘴进行反复进行特定动作的间歇往复移动，该特定动作指，使所述清洗液供给喷嘴在所述保持面的径向上的一端侧暂时停止之后，在所述保持面的上方移动至所述径向上的另一端侧并暂时停止，之后再移动至所述一端侧并暂时停止的动作。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||