发明名称 |
吸収性及び非吸収性材料の不規則に均一な三次元組織スカフォールド |
摘要 |
埋め込み可能な構造体、その構造体の製造方法、その構造体の使用方法であって、その構造体は、非吸収性及び吸収性要素の組み合わせを含み、埋め込み可能な構造体は不規則に均一な材料アレイを有する。結果として得られる埋め込み可能な構造体は、埋め込み後、及び吸収性材料の吸収後、改善された組織内部成長及び可撓性をもたらす。 |
申请公布号 |
JP2016510666(A) |
申请公布日期 |
2016.04.11 |
申请号 |
JP20160500483 |
申请日期 |
2014.02.28 |
申请人 |
エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Inc. |
发明人 |
ランドグレーベ・スザンネ;スミス・ダニエル;ディック・オリバー |
分类号 |
A61F2/04 |
主分类号 |
A61F2/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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