发明名称 吸収性及び非吸収性材料の不規則に均一な三次元組織スカフォールド
摘要 埋め込み可能な構造体、その構造体の製造方法、その構造体の使用方法であって、その構造体は、非吸収性及び吸収性要素の組み合わせを含み、埋め込み可能な構造体は不規則に均一な材料アレイを有する。結果として得られる埋め込み可能な構造体は、埋め込み後、及び吸収性材料の吸収後、改善された組織内部成長及び可撓性をもたらす。
申请公布号 JP2016510666(A) 申请公布日期 2016.04.11
申请号 JP20160500483 申请日期 2014.02.28
申请人 エシコン・インコーポレイテッドEthicon, Inc. 发明人 ランドグレーベ・スザンネ;スミス・ダニエル;ディック・オリバー
分类号 A61F2/04 主分类号 A61F2/04
代理机构 代理人
主权项
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