| 主权项 |
一种基板处理装置，在处理容器内于常压气体氛围下，藉由处理气体对基板施行处理，具备：载置部，设置于该处理容器内，用以载置基板；以及气体供给部，用以对载置于该载置部之基板供给处理气体而设置，具有与该基板对向之气体喷吐面；其特征为：该气体供给部具备：复数之第1气体喷吐口及复数之第2气体喷吐口，在该气体喷吐面的第1区域及第2区域分散地形成；第1气体流路，其上游侧与共通之第1气体供给口连通，于途中分支，而其下游侧开口形成为该复数之第1气体喷吐口；以及第2气体流路，其上游侧与共通之第2气体供给口连通，于途中分支，而其下游侧开口形成为该复数之第2气体喷吐口，与该第1气体流路区隔；将分支之第1气体流路及第2气体流路的流路长及流路径设定成：使自该第1气体供给口起至各该复数之第1气体喷吐口为止之气体的流通时间彼此一致，且自该第2气体供给口起至各该复数之第2气体喷吐口为止之气体的流通时间彼此一致，该第1区域系与该载置部中载置基板之中央部的中央部载置区域相对向，该第2区域系与该载置部中载置基板之边缘部的边缘部载置区域相对向的环状之区域，该第2气体供给口形成于该中央部载置区域上，该第1气体流路具有在俯视观察从该基板之中央部朝向边缘部侧成辐射状扩展的第1扩散流路，该第2气体流路具有在俯视观察从该基板之中央部朝向边缘部成辐射状扩展的第2扩散流路，将该第2气体喷吐口在该第2区域沿着该基板之边缘排列，俾能将处理气体供给横跨至该基板之边缘部整圈，该第1扩散流路与该第2扩散流路形成为高度彼此相异。
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