发明名称 包含具有确定的噻吩类单体含量的聚噻吩的分散体
摘要 本发明涉及一种制备包含聚噻吩的组合物的方法,其包括如下方法步骤:I)提供包含噻吩类单体和氧化剂的组合物Z1;II)通过将所述氧化剂还原成还原产物并将所述噻吩类单体氧化而氧化聚合所述噻吩类单体,从而形成包含聚噻吩和所述还原产物的组合物Z2;III)从在方法步骤II)中获得的组合物Z2中至少部分移除所述还原产物以获得组合物Z3;其中确保在方法步骤III)结束之后,组合物Z3中的未聚合噻吩类单体的含量为1-100ppm,基于组合物Z3的总重量。本发明还涉及一种可通过该方法以组合物Z3获得的组合物、包含聚噻吩的组合物、层结构体、电子组件和组合物的用途。
申请公布号 CN103180386B 申请公布日期 2016.04.06
申请号 CN201180049093.1 申请日期 2011.10.07
申请人 赫劳斯贵金属有限两和公司 发明人 W·勒韦尼希
分类号 C08L65/00(2006.01)I;C08L25/18(2006.01)I 主分类号 C08L65/00(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 肖威;刘金辉
主权项 一种制备包含聚噻吩的组合物的方法,其包括如下方法步骤:I)提供包含噻吩类单体和氧化剂的组合物Z1;II)通过将所述氧化剂还原成还原产物并将所述噻吩类单体氧化而氧化聚合所述噻吩类单体,从而形成包含聚噻吩和所述还原产物的组合物Z2;III)从在方法步骤II)中获得的组合物Z2中至少部分移除所述还原产物以获得组合物Z3;其中确保在方法步骤III)结束之后,组合物Z3中的未聚合噻吩类单体的含量为5‑30ppm,基于组合物Z3的总重量,其中所述噻吩类单体为3,4‑乙撑二氧噻吩(EDOT)且所述聚噻吩为聚(3,4‑乙撑二氧噻吩)(PEDOT),其中除所述噻吩类单体和所述氧化剂之外,在方法步骤I)中提供的组合物Z1还包含聚阴离子,所述聚阴离子为聚苯乙烯磺酸(PSS)。
地址 德国哈瑙