| 摘要 |
복수의 동일하게 설계된 영역을 갖는 반도체 샘플 내의 결함을 검출하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 검사 도구가 샘플의 제1 스와스에 대한 초기 포커스 궤도를 구성하는 데 사용된다. 검사 도구는 이어서 오토포커스 데이터를 수집하면서 제1 스와스에 대한 초기 포커스 궤도를 추종함으로써 제1 스와스를 스캔하는 데 사용된다. 제1 스와스 내의 각각의 동일하게 설계된 영역에 대한 z 오프셋 측정 벡터가 오토포커스 데이터에 기초하여 생성된다. 제1 스와스의 검사를 위한 보정된 z 오프셋 벡터가 검사 도구로 구성된다. 보정된 z 오프셋 벡터를 구성하는 것은, 보정된 z 오프셋 벡터가 2개 이상의 동일하게 설계된 영역에서 각각의 동일한 위치의 세트에 대해 동일한 z 오프셋을 지정하도록 제1 스와스 내의 2개 이상의 동일하게 설계된 영역에 대해 z 오프셋 측정 벡터를 조합하는 것에 기초한다. |
