| 发明名称 |
矽烷偶合剂层叠层高分子膜 |
| 摘要 |
明提供一种高分子膜，系为了使用知玻璃基板、矽基板用装置提供膜器件，提供适合制作由可使用之支持体与高分子膜构成之异物夹入少的叠层体，并提供此高分子膜之制法及使用了此高分子膜之叠层体。 使用一种适合制作至少由支持体与高分子膜构成之叠层体的高分子膜，其系在至少一侧之面形成了矽烷偶合剂层之矽烷偶合剂层叠层高分子膜，该矽烷偶合剂层之表面粗糙度（Sa）为5.0nm以下。就生产性良好之制造方法而言，可不使用真空而制作。 |
| 申请公布号 |
TW201612009 |
申请公布日期 |
2016.04.01 |
| 申请号 |
TW104127261 |
申请日期 |
2015.08.21 |
| 申请人 |
东洋纺股份有限公司 |
发明人 |
奥山哲雄;渡边直树;小林一成;土屋俊之;前田乡司 |
| 分类号 |
B32B27/00(2006.01);B32B33/00(2006.01);B32B37/10(2006.01) |
主分类号 |
B32B27/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
| 主权项 |
一种矽烷偶合剂层叠层高分子膜，在至少一侧之面形成有矽烷偶合剂层，其特征为：该矽烷偶合剂层之3维表面粗糙度（Sa）为5.0nm以下。 |
| 地址 |
日本 |
