发明名称 乙炔基衍生物
摘要 明系关于式I之化合物 其中Y 为N或C-R1';G 为含有0、1、2或3个杂原子之5员或6员芳族或杂芳族环,其系选自由苯基、具有不同N-位置之吡啶基、咪唑基、吡嗪基、嘧啶基、苯硫基、噻唑基、吡唑基或噻二唑基组成之群,该等基团视情况经1、2或3个选自由卤素、低碳烷基、低碳烷氧基、经卤素取代之低碳烷氧基或NRR'组成之群的取代基取代;R及R'彼此独立地为氢或低碳烷基,或可连同其所连接之N原子形成可含有额外的氧、NH或N-低碳烷基之五员或六员饱和杂环基;R1 为氢、卤素或经卤素取代之低碳烷基;R1' 为氢、卤素或经卤素取代之低碳烷基;R2 为氢、低碳烷基、低碳烷氧烷基、环烷基或杂环烷基;或R2可连同基团G中最近的碳原子形成基团 其中A为-CH2-、-CH2CH2或-C(CH3)2-,R3 为苯基或吡啶基,其中该吡啶基中之N原子可在不同位置;或关于医药学上可接受之盐或酸加成盐,关于外消旋混合物,或关于其相对应的对映异构体及/或光学异构体及/或其立体异构体。
申请公布号 TWI527801 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW103132854 申请日期 2014.09.23
申请人 赫孚孟拉罗股份公司 发明人 比曼斯 芭芭拉;葛巴 渥夫甘;杰许柯 乔治;瑞奇 安东尼欧;路荷 丹尼尔;维拉 艾瑞克
分类号 C07D239/96(2006.01);C07D471/04(2006.01);C07D473/04(2006.01);C07D475/02(2006.01);C07D487/04(2006.01);C07D487/06(2006.01);C07D495/04(2006.01);C07D513/04(2006.01);A61K31/517(2006.01);A61K31/519(2006.01);A61K31/522(2006.01);A61K31/5377(2006.01);A61P3/10(2006.01);A61P25/00(2006.01);A61P35/00(2006.01) 主分类号 C07D239/96(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种式I之化合物, 其中Y 为N或C-R1';G 为含有0、1、2或3个杂原子之5员或6员芳族或杂芳族环,其系选自由苯基、具有不同N-位置之吡啶基、咪唑基、吡嗪基、嘧啶基、苯硫基、噻唑基、吡唑基或噻二唑基组成之群,该等基团视情况经1、2或3个选自由卤素、C1-7烷基、C1-7烷氧基、经卤素取代之C1-7烷氧基或NRR'组成之群的取代基取代;R及R'彼此独立地为氢或C1-7烷基,或可连同其所连接之N原子形成可含有额外的氧、NH或N-C1-7烷基之五员或六员饱和杂环基;R1 为氢、卤素或经卤素取代之C1-7烷基;R1' 为氢、卤素或经卤素取代之C1-7烷基;R2 为氢、C1-7烷基、C1-7烷氧烷基、环烷基或杂环烷基;或R2可连同基团G中最近的碳原子形成基团 其中A为-CH2-、-CH2CH2或-C(CH3)2-,R3 为苯基或吡啶基,其中该吡啶基中之N原子可在不同位置; 或医药学上可接受之盐或酸加成盐、外消旋混合物或其相对应的对映异构体及/或光学异构体及/或其立体异构体。
地址 瑞士
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