发明名称 Ⅲ族氮化物磊晶基板及其制造方法
摘要 明提供一种可抑制在部件化步骤产生裂碎之Ⅲ族氮化物磊晶基板及其制造方法。
申请公布号 TWI528581 申请公布日期 2016.04.01
申请号 TW101125050 申请日期 2012.07.11
申请人 同和电子科技股份有限公司 发明人 生田哲也;柴田智彦
分类号 H01L33/04(2010.01) 主分类号 H01L33/04(2010.01)
代理机构 代理人 叶璟宗;郑婷文;詹富闵
主权项 一种Ⅲ族氮化物磊晶基板,系具有:Si基板;初始层,系与该Si基板相邻;及超晶格积层体,系形成于该初始层上且具有复数组积层体,该积层体依续具有由A1组成比超过0.5且1以下的AlGaN构成之第1层、及由A1组成比超过0且0.5以下的AlGaN构成之第2层;并且,该第2层的A1组成比随着远离该Si基板而渐减。
地址 日本