发明名称 Verfahren zum Aufbringen der Schutzschicht, Schutzschicht selbst und Halbfabrikat mit einer Schutzschicht
摘要 Die Erfindung betrifft eine Schutzschicht und ein Verfahren zum Aufbringen der Schutzschicht im Rahmen eines kontinuierlichen Rolle-zu-Rolle-Verfahrens zur Herstellung eines Halbfabrikats organischer elektronischer Bauelemente, umfassend einen Schichtstapel auf einer Substratfolie, wobei die Schutzschicht den Schichtstapel vor und während der Endfertigung vor Umwelteinflüssen und durch die Handhabung bedingten Beschädigungen schützt. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Schutzschicht für die Fertigung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung anzubieten, das einfach, flexibel und kostengünstig ist und dabei weder das Verfahren, noch die Schutzschicht selbst möglichst wenige nachteilige Auswirkungen auf die zu schützenden Funktionsschichten hervorrufen. Die Aufgabe wird gelöst durch ein zumindest temporär in der Phase des Auftragens fluides, vernetz- oder aushärtbares und mit dem Schichtstapel in fluider und in fester Phase sowie mit den Bedingungen während des Rolle-zu-Rolle-Verfahrens kompatibles Schutzschichtmaterial in der Weise aufgetragen wird, dass sich eine funktionelle Schutzschicht herausbildet.
申请公布号 DE102015116418(A1) 申请公布日期 2016.03.31
申请号 DE201510116418 申请日期 2015.09.28
申请人 HELIATEK GMBH 发明人 ANDERSON, MERVE;HERMENAU, MARTIN;PFEIFFER, MARTIN;GERDES, OLGA
分类号 H01L51/00;B32B37/20;H01L21/56 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人
主权项
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