发明名称 超声雾化进样的挥发溶剂辅助电离低压光电离质谱装置
摘要 本发明涉及超声雾化进样的挥发溶剂辅助电离低压光电离质谱装置。该装置包括质谱机构,所述质谱机构包括相邻连接的质谱室和光电离室,所述质谱室的一侧壁上设有后取样锥,另一侧壁上设有质谱室真空泵接口,质谱室内设有离子传输系统和质量分析器;所述后取样锥伸入电离室内,所述电离室的一侧设有前取样锥,另一侧设有电离室真空泵接口;所述光电离室的顶部设有真空紫外光源;还包括超声雾化机构、加热气化机构和挥发溶剂引入机构。本发明借助超声雾化和加热气化脱溶剂对不易挥发的待测物进行直接取样,无需预处理,从而实现灵敏、快速的质谱分析,在食品、农药、环境等快速质谱分析等方面具有广阔的应用前景。
申请公布号 CN103762150B 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201410038329.7 申请日期 2014.01.27
申请人 中国科学技术大学 发明人 潘洋;刘成园;齐飞;王健;朱志祥
分类号 H01J49/10(2006.01)I;H01J49/04(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I;H01J49/26(2006.01)I 主分类号 H01J49/10(2006.01)I
代理机构 合肥金安专利事务所 34114 代理人 金惠贞
主权项 超声雾化进样的挥发溶剂辅助电离低压光电离质谱装置,包括质谱机构,所述质谱机构包括相邻连接的质谱室和电离室,所述质谱室的一侧壁上设有后取样锥,另一侧壁上设有质谱室真空泵接口,质谱室内设有离子传输系统和质量分析器;所述后取样锥伸入电离室内,所述电离室的一侧设有前取样锥,另一侧设有电离室真空泵接口;其特征在于:所述电离室为光电离室,顶部设有真空紫外光源;还包括超声雾化机构、加热气化机构和挥发溶剂引入机构;所述超声雾化机构包括超声耦合室和超声雾化室,超声耦合室由隔板分割为上室和下室,下室内设有由压电陶瓷片、振动片、电子振荡控制器组成的超声装置,超声装置的压电陶瓷片位于上室内的底部,上室内装有耦合水;所述超声雾化室为直立的管状,上端口为敞口状,下端口由薄膜封口,载气管的出口端为直角折管状,从超声雾化室的一侧管壁伸入超声雾化室内,超声雾化室的另一侧管壁连通着加热管的一端,待测物溶液设于超声雾化室内;所述加热气化机构包括加热管和冷凝管,加热管的外部均布着加热丝,加热管的另一端连通着冷凝管的一端,冷凝管的另一端为出口,且所述出口和电离室的前取样锥相对应,冷凝管呈直立状;所述挥发溶剂引入机构包括装有气相挥发溶剂的容器,顶部设有出气口和载气入口,两者均在挥发溶剂液面以上,且出气口和载气入口的直径均小于容器的直径,所述出气口对应位于冷凝管的出口管的管口下方;电离室的前取样锥和质谱室的后取样锥均在同一水平位置,且相互垂直;所述冷凝管的管壁上设有上下贯通的冷却水道,冷却水道的一端为进水口,另一端为出水口,且进水口和出水口均伸至冷凝管外部,冷凝管的出口连通着引流管的入口端,引流管的出口端和电离室的前取样锥在同一平面内;直立状的冷凝管的底部连通着U形水封管;所述质谱室的真空度小于10<sup>‑2</sup>Pa。
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