摘要 |
본 발명에 의하여, 무기층과 제1 유기층을 포함하는 배리어성 적층체로서, 상기 무기층과 제1 유기층은 서로 직접 접하고 있으며, 제1 유기층은, 중합성 화합물, 중합 개시제, 및 하기 일반식 (1)(식 중, R2는 할로젠 원소 또는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내며, L은 2가의 연결기를 나타내고, n은 0에서 2 중 어느 정수를 나타냄)로 나타나는 실레인 커플링제를 포함하는 중합성 조성물의 경화에 의하여 형성된 층이며, 제1 유기층은 산화 타이타늄 미립자를 포함하고, 상기 무기층은 제1 유기층 표면에 화학적 기상 성장법으로 형성된 층인 배리어성 적층체, 상기 배리어성 적층체를 포함하는 가스 배리어 필름, 및 상기 배리어성 적층체를 포함하는 디바이스가 제공된다. 본 발명의 배리어성 적층체는, 높은 배리어성과 함께, 투명성을 갖는다. |