发明名称 新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管
摘要 本发明涉及一种新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管,包括衬底,衬底内的n型漂移区,衬底正面的栅极和发射极,以及衬底背面的集电极,所述栅极与发射极在衬底表面相间排布,所述栅极的底面设有绝缘层,所述衬底正面设有与所述n型漂移区相连的n型载流子存储层,所述载流子存储层的掺杂浓度大于所述n型漂移区的掺杂浓度,所述载流子存储层内设有p阱区,所述p阱区内设有n型掺杂区,所述发射极位于所述p阱区的正上方,所述n型掺杂区延伸到相邻的所述栅极和所述绝缘层的底部。本发明能够缓解RC-IGBT器件导通时由单极载流子引起的电导调制不充分的问题,从而能够抑制Snapback现象,并且能够降低器件的导通电阻。
申请公布号 CN105448972A 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201410828583.7 申请日期 2014.12.25
申请人 深圳深爱半导体股份有限公司 发明人 汪德文;康剑;任炜强;姜波;杜彩霞
分类号 H01L29/739(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 吴平
主权项 一种新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管,包括衬底,衬底内的n型漂移区,衬底正面的栅极和发射极,以及衬底背面的集电极,所述栅极与发射极在衬底表面相间排布,所述栅极的底面设有绝缘层,其特征在于,所述衬底正面设有与所述n型漂移区相连的n型载流子存储层,所述载流子存储层的掺杂浓度大于所述n型漂移区的掺杂浓度,所述载流子存储层内设有p阱区,所述p阱区内设有n型掺杂区,所述发射极位于所述p阱区的正上方,所述n型掺杂区延伸到相邻的所述栅极和所述绝缘层的底部。
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