发明名称 |
新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管 |
摘要 |
本发明涉及一种新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管,包括衬底,衬底内的n型漂移区,衬底正面的栅极和发射极,以及衬底背面的集电极,所述栅极与发射极在衬底表面相间排布,所述栅极的底面设有绝缘层,所述衬底正面设有与所述n型漂移区相连的n型载流子存储层,所述载流子存储层的掺杂浓度大于所述n型漂移区的掺杂浓度,所述载流子存储层内设有p阱区,所述p阱区内设有n型掺杂区,所述发射极位于所述p阱区的正上方,所述n型掺杂区延伸到相邻的所述栅极和所述绝缘层的底部。本发明能够缓解RC-IGBT器件导通时由单极载流子引起的电导调制不充分的问题,从而能够抑制Snapback现象,并且能够降低器件的导通电阻。 |
申请公布号 |
CN105448972A |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201410828583.7 |
申请日期 |
2014.12.25 |
申请人 |
深圳深爱半导体股份有限公司 |
发明人 |
汪德文;康剑;任炜强;姜波;杜彩霞 |
分类号 |
H01L29/739(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/739(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
吴平 |
主权项 |
一种新结构反向导通绝缘栅双极型晶体管,包括衬底,衬底内的n型漂移区,衬底正面的栅极和发射极,以及衬底背面的集电极,所述栅极与发射极在衬底表面相间排布,所述栅极的底面设有绝缘层,其特征在于,所述衬底正面设有与所述n型漂移区相连的n型载流子存储层,所述载流子存储层的掺杂浓度大于所述n型漂移区的掺杂浓度,所述载流子存储层内设有p阱区,所述p阱区内设有n型掺杂区,所述发射极位于所述p阱区的正上方,所述n型掺杂区延伸到相邻的所述栅极和所述绝缘层的底部。 |
地址 |
518118 广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号 |