发明名称 硬涂薄膜
摘要 本发明提供一种硬涂薄膜,其层结构简单且铅笔硬度高(3H以上),且具有加工适应性,并且透射清晰度优异,适合作为各种显示器装置、触摸面板等电子设备的部件。在透明基材薄膜的一个面上具有厚度7~14μm的硬涂层,该硬涂层通过使包含3~6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成,该硬涂层形成材料中,在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35~65质量%,其中,(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下,(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.05μm,(3)透射像清晰度为450以上,其依照JIS K 7374:2007测定,以针对5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。
申请公布号 CN102950846B 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201210286747.9 申请日期 2012.08.10
申请人 琳得科株式会社 发明人 本乡有记;江嶋由多加;那须健司
分类号 B32B27/04(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I 主分类号 B32B27/04(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人 刘激扬
主权项 一种硬涂薄膜,其在透明基材薄膜的一个面上具有硬涂层,其特征在于,在上述透明基材薄膜的一个面上具有厚度7~14μm的上述硬涂层,该硬涂层通过使包含3~6官能单体和有机修饰硅石颗粒的硬涂层形成材料固化而成,该硬涂层形成材料中,在固形物中作为无机成分的有机修饰硅石颗粒所占比例为35~65质量%,更进一步,(1)前述硬涂层表面依照JIS B 0601‑1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下,(2)前述透明基材薄膜的硬涂层侧的相反侧的面依照JIS B 0601‑1994测定的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.05μm,(3)上述硬涂薄膜的透射像清晰度为450以上,其依照JIS K 7374:2007测定,以针对狭缝宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5种狭缝的基于透射法的像清晰度的合计值表示。
地址 日本国东京都