| 发明名称 | 成膜方法 | ||
| 摘要 | 一种成膜方法，所述成膜方法在基板形成由含氟树脂构成的有机层，具有：蒸镀膜形成工序，形成所述有机层作为蒸镀膜；膜厚测定工序，测定所述蒸镀膜的膜厚；以及判断工序，根据所述膜厚的测定结果，判断用于反馈的参数，以便修改所述蒸镀膜形成工序的条件。 | ||
| 申请公布号 | CN104271796B | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201380023865.3 | 申请日期 | 2013.04.04 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 吉田隆;松本昌弘;谷典明;池田进;久保昌司 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 康泉;王珍仙 |
| 主权项 | 一种成膜方法，所述成膜方法在基板形成由含氟树脂构成的有机层，其特征在于，具有：蒸镀膜形成工序，形成所述有机层作为蒸镀膜；膜厚测定工序，测定所述蒸镀膜的膜厚；判断工序，根据所述膜厚的测定结果，判断用于反馈的参数，以便修改所述蒸镀膜形成工序的条件；以及精加工处理工序，用于实现所述蒸镀膜的稳定化和固定化，所述精加工处理工序是通过恒温恒湿处理或加热处理来形成硅氧烷键。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||