发明名称 |
用于液晶面板中的阵列基板及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供了一种阵列基板,其包括:基板(101);在基板(101)之上的低温多晶硅薄膜晶体管;覆盖低温多晶硅薄膜晶体管的平坦层(110);在平坦层(110)中的过孔(110a),其中,过孔(110a)露出低温多晶硅薄膜晶体管的漏电极(109b);在平坦层(110)之上间隔排列的公共电极(111a)和接收电极(111b),其中,公共电极(111a)在触控阶段用作驱动电极,并且被间隔断开的公共电极(111a)连接在一起;覆盖公共电极(111a)、接收电极(111b)和平坦层(110)的钝化层(112);在钝化层(112)上的像素电极(113a),其中,像素电通过过孔(110a)接触漏电极(109b)。本发明还提供了一种该阵列基板的制作方法。本发明节省了阵列基板制作过程中的一道制程,降低了生产成本。 |
申请公布号 |
CN105448933A |
申请公布日期 |
2016.03.30 |
申请号 |
CN201510827673.9 |
申请日期 |
2015.11.24 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
杨祖有 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 |
代理人 |
孙伟峰;武岑飞 |
主权项 |
一种用于液晶面板中的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:基板(101);在所述基板(101)之上的低温多晶硅薄膜晶体管;覆盖所述低温多晶硅薄膜晶体管的平坦层(110);在所述平坦层(110)中的过孔(110a),其中,所述过孔(110a)露出所述低温多晶硅薄膜晶体管的漏电极(109b);在所述平坦层(110)之上间隔排列的公共电极(111a)和接收电极(111b),其中,所述公共电极(111a)在触控阶段用作驱动电极,并且被间隔断开的所述公共电极(111a)连接在一起;覆盖所述公共电极(111a)、所述接收电极(111b)和所述平坦层(110)的钝化层(112);在所述钝化层(112)上的像素电极(113a),其中,所述像素电通过所述过孔(110a)接触所述漏电极(109b)。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 |