| 发明名称 | 蚀刻液及其制备方法与应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法与应用。本发明提供的透明导电膜用蚀刻液，包括如下各组分：式I所示磺酸类化合物、草酸、甲叉膦酸盐类络合物和水。该透明导电膜刻蚀液在触摸屏生产工艺中用尤其适用于蚀刻ITO膜，在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣，有效抑制有效起泡，没有大量泡沫产生，且能够在温和的工作条件下对无定形ITO膜高效且高精度地进行蚀刻，蚀刻效率和精度均可满足现有要求，具有重要的应用价值。<img file="DDA0000456546890000011.GIF" wi="556" he="336" /> | ||
| 申请公布号 | CN103755147B | 申请公布日期 | 2016.03.30 |
| 申请号 | CN201410015519.7 | 申请日期 | 2014.01.14 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 梁晓;唐洪;田博 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01)I | 主分类号 | C03C15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人 | 关畅 |
| 主权项 | 一种蚀刻液组合物，为由如下各质量百分含量的组分组成：式I所示磺酸类化合物：0.5‑10％；草酸：1‑15％；甲叉膦酸盐类络合物：0.1‑5％；余量为水；<img file="FDA0000905803030000011.GIF" wi="556" he="431" />所述式I中，R<sub>1</sub>为‑CH<sub>2</sub>‑、‑C<sub>2</sub>H<sub>4</sub>‑、‑C<sub>3</sub>H<sub>6</sub>‑或‑C<sub>4</sub>H<sub>8</sub>‑。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室 | ||