Method of manufacturing integrated circuit device using photoresist pattern

摘要

포토레지스트막을 열처리한 후 노광하기 전에 포토레지스트막을 상온으로 냉각시키는 공정을 포함하는 포토레지스트 패턴 형성 방법 및 집적회로 소자의 제조 방법을 제공한다. 포토레지스트 패턴 형성 방법에서, 포토레지스트막을 1차 열처리한 후, 상온으로 냉각시킨다. 냉각된 포토레지스트막의 일부를 노광한다. 노광된 포토레지스트막을 2차 열처리한 후, 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성한다.