| 摘要 |
ＥＵＶ光源（２）は、投影リソグラフィのための投影露光装置に対して使用されるＥＵＶ照明光の出力ビーム（３）を発生させるように機能する。光源（２）は、ＥＵＶ生出力ビーム（３０）を発生させるＥＵＶ発生デバイス（２ｃ）を有する。生出力ビーム（３０）は、円偏光又は楕円偏光（３１）を有する。光源（２）の使用される偏光設定デバイス（３２）は、使用される出力ビーム（３）の偏光を設定するために生出力ビーム（３０）に対して偏光方向に関して直線偏光を与える効果（３４）を作用する。使用される偏光設定デバイス（３２）は、生出力ビーム（３０）のビーム経路に配置された少なくとも１つの位相遅延構成要素（３７）を有する。この少なくとも１つの位相遅延構成要素は、重ね合わされて生出力ビーム（３０）の偏光を形成する２つの直線偏光波の間にＥＵＶ照明光の使用される出力ビーム（３）の波長λの半分よりも小さい正味位相シフトを発生させる。その結果は、分解能最適化照明に向けて改善された出力ビームを有するＥＵＶ光源である。【選択図】図３ |
