发明名称 |
微机械系统和用于制造微机械系统的方法 |
摘要 |
微机械系统和用于制造微机械系统的方法。制造微机械系统的方法包括在FEOL工艺中在晶体管区域中形成晶体管的步骤。在FEOL工艺之后,在晶体管区域中沉积保护层,其中保护层包括隔离材料。至少在不是晶体管区域的区域中形成结构化牺牲层。此外,形成至少部分覆盖结构化牺牲层的功能层。在形成功能层之后,去除牺牲层以便在功能层与沉积有牺牲层的表面之间产生空腔。保护层保护晶体管避免在MOL以及BEOL工艺中的进一步处理步骤中的蚀刻工艺期间受到损害。相同的氧化物可以用作BEOL中的金属化工艺的基础。因此,通常用作晶体管的保护的保护层可以保留在晶体管上方。因此,在BEOL工艺之前施加的保护层变成氧化物覆盖物的部分。 |
申请公布号 |
CN105417489A |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201510363290.0 |
申请日期 |
2015.06.26 |
申请人 |
英飞凌科技德累斯顿有限责任公司 |
发明人 |
S.比泽尔特;B.宾德;H.弗勒利希;T.考奇;M.施特格曼;M.福格特 |
分类号 |
B81B7/02(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81B7/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
王岳;徐红燕 |
主权项 |
一种用于制造微机械系统的方法,所述方法包括:在晶体管区域中形成前段制程(FEOL)工艺晶体管;在所述FEOL工艺之后,在所述晶体管区域中沉积保护层,其中所述保护层包括隔离材料;形成牺牲层;对所述牺牲层进行结构化以形成结构化牺牲层;形成至少部分覆盖所述结构化牺牲层的功能层;以及去除所述牺牲层以产生空腔。 |
地址 |
德国德累斯顿 |