发明名称 |
投影融合暗场处理方法及融合设备 |
摘要 |
本发明公开了一种投影融合暗场处理方法,包括:确定暗场处理参数,在接收到输入图像后,根据输入图像中的每个像素点的位置信息,获取位于暗场处理区域内的像素点;根据暗场处理区域内的各个像素点的亮度信息,获取位于暗场处理亮度范围内的像素点;根据暗场处理亮度范围内的各个像素点的颜色信息,依次获取对应颜色的暗场叠加曲线,并分别从暗场叠加曲线上获取与各个像素点的亮度值对应的各个暗场叠加值;分别将各个暗场叠加值附加在相应的像素点当前的亮度值上,以得到暗场处理后的像素点。本发明还公开了一种融合设备。本发明实现了对暗场像素点的亮度进行精准地调整,提高了投影融合暗场处理的效率及改善图像显示效果。 |
申请公布号 |
CN105430365A |
申请公布日期 |
2016.03.23 |
申请号 |
CN201510752772.5 |
申请日期 |
2015.11.06 |
申请人 |
深圳市创凯智能股份有限公司 |
发明人 |
马超;李志鸿 |
分类号 |
H04N9/31(2006.01)I |
主分类号 |
H04N9/31(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 |
代理人 |
胡海国 |
主权项 |
一种投影融合暗场处理方法,其特征在于,所述投影融合暗场处理方法包括以下步骤:确定暗场处理参数,所述暗场处理参数包括暗场处理区域、暗场处理亮度范围及暗场叠加曲线;在接收到输入图像后,根据所述输入图像中的每个像素点的位置信息,获取位于所述暗场处理区域内的像素点;根据所述暗场处理区域内的各个像素点的亮度信息,获取位于所述暗场处理亮度范围内的像素点;根据所述暗场处理亮度范围内的各个像素点的颜色信息,依次获取对应颜色的暗场叠加曲线,并分别从所述暗场叠加曲线上获取与各个像素点的亮度值对应的各个暗场叠加值;分别将所述各个暗场叠加值与相应的像素点当前的亮度值进行结合,以得到暗场处理后的像素点。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区西丽街道科技园北区松坪山新西路7号兰光科技大楼B座212单位 |