酸化珪素膜用研磨液組成物

摘要

【課題】研磨速度を向上しうる酸化珪素膜用研磨液組成物の提供。【解決手段】一又は複数の実施形態において、水と、酸化セリウム粒子と、分子内に、アミノ基、及び、スルホン酸基及び／若しくはホスホン酸基を有する化合物とを含有する酸化珪素膜用研磨液組成物である。また、その他の一又は複数の実施形態において、前記研磨液組成物にける比（［スルホン酸基及び／若しくはホスホン酸基のモル数］／［酸化セリウム粒子の総表面積］）が、１．６?１０-5〜５．０?１０-2モル／ｍ2である。【選択図】なし