| 发明名称 | 掩膜板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域，所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层。本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板本体上设置防划伤层，在掩模板与待曝光的基板进行对位时，即使待曝光的基板上存在异物，通过该防划伤层可以起到对掩膜板本体的保护作用，从而防止对掩膜板本体造成损伤，避免影响所制作产品的良率。 | ||
| 申请公布号 | CN105425533A | 申请公布日期 | 2016.03.23 |
| 申请号 | CN201610007354.8 | 申请日期 | 2016.01.06 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 吴春晖;蒋盛超;安予生;喻琨 |
| 分类号 | G03F1/48(2012.01)I;G03F1/72(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/48(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域，其特征在于，所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||