一种制备光学防伪元件的方法

摘要

本发明提供一种制备光学防伪元件的方法，其能够获得位于大深宽比或小深宽比起伏结构上的精确定位的镀层。该方法包括：在基材上形成起伏结构层，该起伏结构层包括至少第一区域和第二区域，所述第一区域中的起伏结构层的深宽比大于所述第二区域中的起伏结构层的深宽比；在起伏结构层上形成镀层；在镀层上形成感光胶层；在感光胶层一侧以合适的曝光剂量进行曝光，以使得所述第一区域和所述第二区域其中一个区域上的感光胶层在后续显影步骤中的溶解度大于另一个区域上的感光胶层的溶解度；用所述显影液进行显影，直到所述一个区域上的感光胶层完全溶于显影液而所述另一个区域上的感光胶层仍然存在为止；以及去除未被感光胶层保护的镀层。

主权项

一种制备光学防伪元件的方法，该方法包括：在基材(1)上形成起伏结构层(2)，该起伏结构层(2)包括至少第一区域(A)和第二区域(B)，其中所述第一区域(A)中的起伏结构层的深宽比大于所述第二区域(B)中的起伏结构层的深宽比；在所述起伏结构层(2)上形成镀层(3)；在所述镀层(3)上形成感光胶层(4)；在所述感光胶层(4)一侧以合适的曝光剂量进行曝光，以使得所述第一区域(A)和所述第二区域(B)其中一个区域上的所述感光胶层(4)在后续显影步骤中的溶解度大于另一个区域上的所述感光胶层(4)的溶解度；用显影液进行显影，直到所述一个区域上的所述感光胶层(4)完全溶于所述显影液而所述另一个区域上的所述感光胶层(4)仍然存在为止；以及去除未被所述感光胶层(4)保护的所述镀层(3)。