| 发明名称 | 将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备 | ||
| 摘要 | 一种适用于将物场(4)成像于像场(8)中的投射光学单元(7)。多个反射镜(M1至M8)适用于将来自物场(4)的成像光(3)引导至像场(8)。反射镜(M1至M8)中的至少两个实施为用于成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6)，其在成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。这导致具有良好校正的可成像场且同时具有高成像光通量的成像光学单元。 | ||
| 申请公布号 | CN105408796A | 申请公布日期 | 2016.03.16 |
| 申请号 | CN201480042509.0 | 申请日期 | 2014.07.25 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | M.施瓦布 |
| 分类号 | G02B17/06(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B17/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种将物场(4)成像至像场(8)中的投射光学单元(7；20；21；22；23；24；25；26；27；28；29；30)，‑包含多个反射镜(M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M11)，用于将来自所述物场(4)的成像光(3)引导至所述像场(8)，‑其中，所述反射镜(M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M11)中的至少两个实施为用于所述成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6；M1、M2；M1、M2、M3；M3、M4；M6、M7；M4、M5；M2至M6；M1至M4；M6至M9)，其在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||