| 发明名称 |
具终点侦测窗之化学机械硏磨垫 |
| 摘要 |
一种化学机械研磨垫，其含有具有研磨表面之研磨层；以及终点侦测窗；其中终点侦测窗包含成分之反应产物，其包含：具有5.5wt%至9.5wt%未反应NCO基团之异氰酸酯封端胺甲酸乙酯预聚合物，其中异氰酸酯封端胺甲酸乙酯预聚合物系为成分之反应产物，其包含：芳香族多官能异氰酸酯；以及预聚合物多元醇；以及固化剂系统，其包含：0wt%至90wt%之双官能基固化剂；以及10wt%至100wt%之胺引发多元醇固化剂，其每个分子具有至少一个氮原子，并且每个分子平均具有至少三个羟基。也提供的是制作及使用该化学机械研磨垫的方法。
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| 申请公布号 |
TW201609310 |
申请公布日期 |
2016.03.16 |
| 申请号 |
TW104113011 |
申请日期 |
2015.04.23 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股公司;陶氏全球科技责任有限公司 |
发明人 |
钱 百年;狄罗特 马提 |
| 分类号 |
B24B37/013(2012.01);B24B37/24(2012.01);B24B49/12(2006.01);B24D7/12(2006.01);C08G18/32(2006.01);C08G18/66(2006.01);C08G18/10(2006.01);G02B1/12(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
B24B37/013(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种化学机械研磨垫，系包含：具有研磨表面之研磨层；以及终点侦测窗；其中该终点侦测窗包含成分之反应产物，该成分系包含：(i)具有5.5wt%至9.5wt%未反应NCO基团之异氰酸酯封端胺甲酸乙酯预聚合物，其中该异氰酸酯封端胺甲酸乙酯预聚合物系为成分之反应产物，该成分系包含：(a)芳香族多官能异氰酸酯；以及(b)预聚合物多元醇；以及(ii)固化剂系统，系包含：0wt%至90wt%之双官能基固化剂；以及10wt%至100wt%之胺引发多元醇固化剂，其每个分子具有至少一氮原子，并且每个分子平均具有至少三个羟基。
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| 地址 |
美国;美国 |
