发明名称 一种低暗电流铟镓砷探测器及其制备方法
摘要 本发明所述的一种低暗电流铟镓砷探测器,包括层叠设置的第二电极、N型InP衬底和本征InP缓冲层,所述InP缓冲层上直接形成有InGaAs光敏层,所述InGaAs光敏层上层叠设置有InP帽层和通过外延方式生长的钝化层,所述InP帽层面积小于或等于所述InGaAs光敏层的面积;所述钝化层中开设有暴露所述InP帽层部分区域的通孔,沿所述通孔内侧壁形成环形第一电极。通过外延方式制备的钝化层,其成膜质量远远高于传统工艺所制备的钝化层,可以大大降低铟镓砷探测器的暗电流,提高灵敏度。
申请公布号 CN105405913A 申请公布日期 2016.03.16
申请号 CN201510928646.0 申请日期 2015.12.15
申请人 苏州矩阵光电有限公司 发明人 胡双元
分类号 H01L31/10(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/10(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种低暗电流铟镓砷探测器,其特征在于,包括层叠设置的第二电极(8)、N型InP衬底(1)和本征InP缓冲层(2),所述InP缓冲层(2)上直接形成有InGaAs光敏层(3),所述InGaAs光敏层(3)上层叠设置有InP帽层(4)和通过外延方式生长的钝化层(5),所述InP帽层面积小于或等于所述InGaAs光敏层的面积;所述钝化层(5)中开设有暴露所述InP帽层部分区域的通孔,沿所述通孔内侧壁形成环形第一电极(6)。
地址 215614 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰科创园D栋苏州矩阵光电有限公司