发明名称 |
入射瞳のバック・フォーカスが負である投影対物系および投影露光装置 |
摘要 |
The objective has a mirrored entry pupil in a mirrored entry pupil plane obtained by mirroring an entry pupil at an object plane. An illumination ray bundle traverses an illumination system of a microlithography projection exposure apparatus. An image-projecting ray path and the illumination ray bundle do not cross over each other in a meridional plane in a light path from the object plane to an image plane (2102). An intermediate image is formed in the light path from the object plane to the image plane. |
申请公布号 |
JP5883778(B2) |
申请公布日期 |
2016.03.15 |
申请号 |
JP20120285891 |
申请日期 |
2012.12.27 |
申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
ドクター・ハンス−ユルゲン・マン;ドクター・ウォルフガング・シンゲル |
分类号 |
G02B17/08;G02B13/14;G02B13/18;H01L21/027 |
主分类号 |
G02B17/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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