| 发明名称 |
成膜方法 |
| 摘要 |
明系一种成膜方法，其系于含有稀有气体原子及水分子，且上述水分子之含量相对于上述稀有气体原子以分压比计为0.1~10%的气体环境中，溅镀包含金属氧化物之靶材而于基板上形成薄膜。
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| 申请公布号 |
TWI525205 |
申请公布日期 |
2016.03.11 |
| 申请号 |
TW100114149 |
申请日期 |
2011.04.22 |
| 申请人 |
出光兴产股份有限公司 |
发明人 |
西村麻美;笘井重和;矢野公规;笠见雅司;糸濑将之;松崎滋夫;江端一晃 |
| 分类号 |
C23C14/08(2006.01);C23C14/34(2006.01);H01L21/363(2006.01);H01L29/786(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/08(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种成膜方法，其系于含有稀有气体原子及水分子，且上述水分子之含量相对于上述稀有气体原子以分压比计为0.1~10%的气体环境中，以直流功率密度0.1~10W/cm2溅镀包含金属氧化物之靶材而于基板上形成薄膜。
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| 地址 |
日本 |
