发明名称 抹布结构改良
摘要 作系为一种抹布结构改良,尤指针对式抹布组成的各纱布层在制程中经浆料定型,造成抹布在使用时纱布层释出含有萤光剂等化学物质的浆料会刺激或伤害皮肤的缺点,及为解决式抹布结构先裁切大小相同纱布层相叠后,再加以车缝固定,同时为避免周边纱布脱纱再加以车边固定之加工繁复,加以改良之创新结构;系主要由一长条纱布层于四周边适当宽度往内折一折边后,配合一略小于长条纱布层之内纱布层,将内纱布层置于折边后之长条纱布层上方,再予以对折并加以车缝结合成一复数纱布层的抹布,该抹布再经过脱浆处理,使抹布各纱布层在脱浆处理中形成自然皱褶结构;俾可避免抹布残留含有萤光剂等化学物质的浆料在使用中释放出来造成肌肤的刺激伤害,同时抹布在擦拭使用时又以皱褶表面凹凸空间可容纳脏污杂质,而能迅速将脏污抹除乾净,具较佳之清洁效果之进步性者。
申请公布号 TWM518535 申请公布日期 2016.03.11
申请号 TW104214455 申请日期 2015.09.05
申请人 杨丰瑜 发明人 杨丰瑜
分类号 A47L13/16(2006.01) 主分类号 A47L13/16(2006.01)
代理机构 代理人 吴建兴
主权项 一种抹布结构改良,系主要由一适当长度之纱布层于其四周边适当宽度往内折一折边后,配合一略小于纱布层之内纱布层,将内纱布层置于纱布层上方,再予以复数次往内折叠合后,加以车缝线车缝固定结合成一复数纱布层的抹布者。
地址 彰化县和美镇和头路666巷11号