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发明名称
基板处理方法及基板处理装置
摘要
一种基板处理方法及基板处理装置,该基板处理方法可有效除去受到摩擦处理中可能生成之氟离子影响所生成的污染成分。 一种基板处理方法,系处理使用于液晶显示面板且已摩擦处理完毕之基板;该方法之构成包含:第1步骤,系藉由溶氮水洗净前述基板,且该溶氮水系使至少含氮气之气体溶解于水而形成者;并且前述溶氮水之温度系调整于40℃以上且80℃以下之范围内。
申请公布号
TWI525364
申请公布日期
2016.03.11
申请号
TW103127599
申请日期
2014.08.12
申请人
芝浦机械电子装置股份有限公司
发明人
大森圭悟;矶明典;今冈裕一;手岛理惠
分类号
G02F1/13(2006.01)
主分类号
G02F1/13(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
一种基板处理方法,系处理使用于液晶显示面板且已摩擦处理完毕之基板,该方法包含:第1步骤,系藉由溶氮水洗净前述基板,且该溶氮水系使至少含氮气之气体溶解于水而形成者;并且前述溶氮水之温度系调整于40℃以上且80℃以下之范围内。
地址
日本
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