发明名称 一种用于蚀刻含铜金属层的金属蚀刻剂及其制备方法
摘要 本发明公开了一种用于蚀刻含铜金属层的金属蚀刻剂及其制备方法,该金属蚀刻剂由以下按照重量份的原料组成:过氧化氢20-30份、乙酸1-5份、次氨基三乙酸1-3份、羧甲基纤维素钠10-15份、硼酸15-20份、富马酸钠12-14份、氟化钠1-2份、乙二醇4-10份、联苯胺黄2-10份、硬脂酸钡6-8份、偶氮二异丁腈8-12份。本发明还提供了用于蚀刻含铜金属层的金属蚀刻剂的制备方法。该金属蚀刻剂的蚀刻速率高达132nm/min以上,远远高于一般的蚀刻液,提高了蚀刻效率,且在加入铜粉末的情况下,该金属蚀刻剂仅具有38.9℃的最高温度,因此抑制了有效成分过氧化氢的分解,显著的提高了稳定性。
申请公布号 CN105386056A 申请公布日期 2016.03.09
申请号 CN201510885466.9 申请日期 2015.12.04
申请人 宁波东盛集成电路元件有限公司 发明人 尹国钦;郭永华;杨正军;吕淑英;颜磊;张美刚;田芳华
分类号 C23F1/18(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I 主分类号 C23F1/18(2006.01)I
代理机构 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人 杜军
主权项 一种用于蚀刻含铜金属层的金属蚀刻剂及其制备方法,其特征在于,由以下按照重量份的原料组成:过氧化氢20‑30份、乙酸1‑5份、次氨基三乙酸1‑3份、羧甲基纤维素钠10‑15份、硼酸15‑20份、富马酸钠12‑14份、氟化钠1‑2份、乙二醇4‑10份、联苯胺黄2‑10份、硬脂酸钡6‑8份、偶氮二异丁腈8‑12份。
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